直流气体放电活化反应蒸发沉积SnO_x超微粒子薄膜

朱以华; 赵大春; 戴慕仉; 潘孝仁

朱以华, 赵大春, 戴慕仉, 潘孝仁. 直流气体放电活化反应蒸发沉积SnO_x超微粒子薄膜[J]. 华东理工大学学报（自然科学版）, 1992, (5).

引用本文:

朱以华, 赵大春, 戴慕仉, 潘孝仁. 直流气体放电活化反应蒸发沉积SnO_x超微粒子薄膜[J]. 华东理工大学学报（自然科学版）, 1992, (5).

Deposition of SnO_x Ultrafine Particle Films (UPF) by DC Gas Discharge Activated Reactive Evaporation[J]. Journal of East China University of Science and Technology, 1992, (5).

Citation:

Deposition of SnO_x Ultrafine Particle Films (UPF) by DC Gas Discharge Activated Reactive Evaporation[J]. Journal of East China University of Science and Technology, 1992, (5).

直流气体放电活化反应蒸发沉积SnO_x超微粒子薄膜

Deposition of SnO_x Ultrafine Particle Films (UPF) by DC Gas Discharge Activated Reactive Evaporation

摘要

摘要: 制得的SnO_x薄膜,用扫描电子显微镜和X射线衍射仪分析,显示为平均颗粒小于50nm的超微粒子薄膜。其中组成颗粒的晶粒大小平均为5.0～8.0nm。讨论了沉膜过程中基底温度、氧气分压、放电电压、蒸发源温度和反应蒸镀时间对薄膜结构和性质的影响。得到了制备SnO_2相含量较高,且接近无色透明的超微粒子薄膜的最佳工艺条件。

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