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    朱树新, 陈峡华, 李雨田, 李世瑨. 甲基异丙烯基酮均聚物及其共聚物的光降解行为的研究[J]. 华东理工大学学报（自然科学版）, 1983, (2).
    引用本文: 朱树新, 陈峡华, 李雨田, 李世瑨. 甲基异丙烯基酮均聚物及其共聚物的光降解行为的研究[J]. 华东理工大学学报（自然科学版）, 1983, (2).
    shu

    甲基异丙烯基酮均聚物及其共聚物的光降解行为的研究

      摘要
    • 摘要: 光敏性高分子是一种功能高分子,它已用作为集成电路制造中不可缺少的光致抗蚀剂。随着电子工业的发展,从集成电路到超大规模集成电路的研究和生产,对光致抗蚀剂提出了更高的要求。目前工业上生产的光致抗蚀剂有两种类型:负性抗蚀剂和正性抗蚀剂。一般前

       

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