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    徐群杰, 周国定. 苯并三氮唑和4—羧基苯并三氮唑对铜缓蚀作用[J]. 华东理工大学学报（自然科学版）, 2000, (2): 172-176.
    引用本文: 徐群杰, 周国定. 苯并三氮唑和4—羧基苯并三氮唑对铜缓蚀作用[J]. 华东理工大学学报（自然科学版）, 2000, (2): 172-176.
    shu
    Photoelectrochemical Comparative Studies of the Inhibiting Action of BTA and 4CBTA on Copper[J]. Journal of East China University of Science and Technology, 2000, (2): 172-176.
    Citation: Photoelectrochemical Comparative Studies of the Inhibiting Action of BTA and 4CBTA on Copper[J]. Journal of East China University of Science and Technology, 2000, (2): 172-176.
    shu

    苯并三氮唑和4—羧基苯并三氮唑对铜缓蚀作用

    Photoelectrochemical Comparative Studies of the Inhibiting Action of BTA and 4CBTA on Copper

      摘要
    • 摘要: 采用光电化学方法和交流阻抗方法将不同浓度的ＢＴＡ（苯并三氮唑）和４ＣＢＴＡ（４－羧基苯并三氮唑）在硼砂缓冲溶液（ｐＨ９．２）中对铜电极的缓蚀性能作了比较。发现在阳性向电位扫描中，一定农度的ＢＴＡ作用下，铜电极光响应由ｐ型转化为ｎ型，并可依此判断缓蚀剂的缓蚀性能。ｎ型光响应越大，缓蚀剂的缓蚀性能越好；而在４ＣＢＴＡ作用下，铜电极光响应保持ｐ型，然其阴极向扫描中最大光电汉变化明显，并可据此判断缓蚀剂诉

       

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