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    丁平, 盛明慧, 丛德滋, 韩杰, 陈良恒, 袁渭康. 立式冷壁反应器中化学气相淀积TiN涂层 Ⅰ.淀积参数对反应速率和涂层质量的影响[J]. 华东理工大学学报(自然科学版), 1990, (3).
    引用本文: 丁平, 盛明慧, 丛德滋, 韩杰, 陈良恒, 袁渭康. 立式冷壁反应器中化学气相淀积TiN涂层 Ⅰ.淀积参数对反应速率和涂层质量的影响[J]. 华东理工大学学报(自然科学版), 1990, (3).

    立式冷壁反应器中化学气相淀积TiN涂层 Ⅰ.淀积参数对反应速率和涂层质量的影响

    • 摘要: 在立式冷壁CVD反应器中,用TiCl_4-H_2N_2和TiCl_4-H_2N_2-Ar为反应物源,在YT15硬质合金刀片上淀积TiN涂层。研究了淀积参数对淀积薄膜质量和淀积速率的影响。得到的TiN_x涂层外观光洁,呈金黄色,x为0.8~1.6,淀积速率15~60m~(-6)/h,显微硬度1800~2200HV,淀积反应为扩散过程控制;表观活化能为46.5kJ/mol。实验表明,TiN在冷壁反应器中的淀积速率远大于在热壁反应器中的淀积速率。

       

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